X荧光熔样机的主要用途
发布时间：
2023-07-17
X荧光熔样机是采用玻璃熔融法制备玻璃熔片，用AAS、ICP、X-荧光分析的样品制备仪器，基本消除了矿物效应和基体的增强吸收效应，测量的精密度高、准确度好;高温熔融所采用的加热方式有：燃气加热、电阻辐射加热和高频感应加热三种方式。
X荧光熔样机的主要用途包括：
1.将固体样品制备成玻璃熔样，以进行XRF分析。
2.将粉末样品与融剂混合均匀并完全熔融，提高分析的重复性。
3.改善样品的均质性，提高测试精度。
4.可制备不同形状的熔融样品，适应各种样品室和检测需求。
5.常用于矿产、冶金、环保、水泥、陶瓷等行业的原材料及产品的成分分析。
6.也可用于合金、稀土材料、半导体材料等高技术材料的组分检测。
7.制备样品进行标准物质的计量认证。
8.制备监控样和控制样，用于设备调试和质量控制。
9.可根据行业和应用需求，选择不同功率和自动化程度的熔样机型号。
10.熔样质量直接影响后续的XRF分析结果。
综上所述，X荧光熔样机是XRF分析中非常关键的样品前处理设备。
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